国内首创长光程光学检测技术 ，光程2米以上，真正实现0.1ppm直测 ，非算法拟合。
SO2和H2S采用改进型紫外差分光谱（DOAS） ，与传统的技术相比，测量精度不受水分和粉尘影响 。
CO采用红外波长滤波技术（GFC）搭配长光程气室（L-Cell），更低的检出限更好的抗干扰性能。
光源采用高稳定性脉冲氙灯或者脉冲直流红外光源，仪器具有更长的寿命。
模块化设计，光源、光谱仪、核心电路、气体室、传感器等采用模块化设计 ，可靠性高 、可扩展性好、维护方便。
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GW-6000型SF6综合气体分析仪是我公司针对电力领域SF6绝缘气体微量分解产物而开发的纯光学气体分析仪。该分析仪采用了自主知识产权的长光程气体吸收池（L-Cell），结合190-230nm深紫外差分光谱技术（DOAS）实现了针对SO2 、HF、H2S等气体的精确测量 ，同时选用红外波长滤波（GFC）技术的红外气体传感器针对CO进行分析，具有高分辨率、低检出限，快响应性等特点 ，快速准确地判断出SF6断路器 、互感器 、GIS和变压器等电气设备内部早期故障。
测量气体 SO2、H2S 、CO 、SF6
测量范围 0~100ppm、0~100ppm、0~500ppm、0%~100%
技术原理 DOAS+GFC+NDIR
应用领域 煤矿电力 -SF6分解产物检测
国内首创长光程光学检测技术 ，光程2米以上，真正实现0.1ppm直测 ，非算法拟合。
SO2和H2S采用改进型紫外差分光谱（DOAS） ，与传统的技术相比，测量精度不受水分和粉尘影响 。
CO采用红外波长滤波技术（GFC）搭配长光程气室（L-Cell），更低的检出限更好的抗干扰性能。
光源采用高稳定性脉冲氙灯或者脉冲直流红外光源，仪器具有更长的寿命。
模块化设计，光源、光谱仪、核心电路、气体室、传感器等采用模块化设计 ，可靠性高 、可扩展性好、维护方便。
检测组分 | SO2 | H2S | CO | 露点 | SF6 |
检测原理 | 紫外差分吸收光谱技术 | 波长滤波红外 | 阻容法 | 非分散红外 | |
量程 | 默认量程0~100ppm | 0~500ppm | -60℃~+20℃ | 0%~100% | |
检出限 | ±1%F.S. | ±0.1℃ | ±0.05% | ||
示值误差 | ±1%F.S. | ±0.5℃ | ±0.5% | ||
交叉干扰 | SF6 、CO 、HF、SO2 、H2S相互干扰≤2%F.S. | ||||
重复性 | ≤1% | ||||
零点漂移 | 不超过±2%F.S./d | ||||
量程漂移 | 不超过±2%F.S./d | ||||
采样流量 | （0.2-0.5）L/min | ||||
采样方法 | 抽取式测试 | ||||
环境温度 | -20℃~45℃ | ||||
响应时间 | ≤60s | ||||
预热时间 | ≤30min | ||||
通讯接口 | RS232&USB | ||||
数据输出 | 支持打印机、串口 | ||||
电源/功率 | 220VAC±22V，＜200W | ||||
重量 | 约10kg | ||||
各技术应用对比 | ||||
技术原理 | 电化学法 | 色谱法 | 光学法（红外/紫外） | 化学比色/电离法 |
气体成分 | 有损 | 有损 | 无损 | 有损 |
检测精度 | 低 | 高 | 高 | 低 |
重复性 | 差 | 高 | 高 | 低 |
使用寿命 | 电化学试剂寿命短 | 定期更换载气 ，二年更换色谱柱 | 无耗材 ，5年以上 | 需更换耗材，寿命2年 |
耗气量 | 200ml | 1L以上 | 500mL以上 | 1L以上 |
便携性 | 很好 | 极差 | 好 | 一般 |
响应速度 | 45秒 | 5分钟 | 70秒 | 2分钟 |
品名 | 型号 | 备 注 |
SF6综合气体分析仪 | GW-6000P | 红外光学：CO、SF6 |
GW-6000M | 红外光学 ：CO、SF6 | |
GW-6000B | 红外光学：CO | |
SF6分解产物分析仪 | GW-6001 | 红外光学：CO ，紫外光学：H2S、SO2 |
SF6纯度微水分析仪 | GW-6002 | 红外光学 ：SF6，激光光学：H2O |
SF6/CF4混合气体分析仪 | GW-6003 | 红外光学 ：SF6、CF4，阻容法：H2O |
SF6/N2混合气体分析仪 | GW-6004 | 红外光学：SF6、N2 ，阻容法：H2O |
进口红外光源提供长期稳定的红外光 ，能够满足红外气体吸收池的气体测量 ；高灵敏的探测器配合精心定制的、具有极强选择性的两片滤波片 ，选择特定波长光照射到达探测器，从而输出带有浓度信号的电压波形，提供微处理器采集和计算、校准 ，获得浓度信号 ，通过数字信号输出。同时，自动补偿因光源强度的改变，或光学器件受污染所带来的影响。
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